Tungsten hedefleri püskürtme sürecinde nasıl çalışır?

Jun 05, 2025

Mesaj bırakın

Zhenan Tungsten Hedef Ürün PDF belgesi, indirmek için tıklayın

tungsten metal sputtering target manufacture

Tungsten hedefleri püskürtme sürecinde nasıl çalışır?

Püskürtme, iyonize gaz atomlarının bir tungsten hedefine doğru hızlandırıldığı fiziksel buhar birikimi (PVD) tekniğidir. Bu enerjik iyonlar tungsten hedefinin yüzeyine çarptığında, tungsten atomları hedef materyalden atılır. Bu çıkarılan tungsten atomları daha sonra gaz dolu bir odadan geçer ve ince bir film oluşturmak için bir substrat üzerine bırakılır. Tungsten hedefinin yüksek erime noktası ve iyi termal stabilitesi, püskürtme işlemi sırasında enerjik iyonların bombardımanına dayanmasını sağlar. Tungsten'in düşük buhar basıncı, püskürtme hızının zamanla sabit kalmasını sağlar, bu da tutarlı ve muntazam film birikimi ile sonuçlanır.

 
Zhenan yüksek kaliteli tungsten hedefi
 
w sputtering target manufacture
Yüksek saflıkta püskürtme hedef fabrikası
High Purity Tungsten Sputtering Target company
Yüksek Saflıklı Tungsten Püskürtme Hedef Fabrikası
High Purity Tungsten Sputtering Target factory
Saf W Metal Püskürtme Hedef Fabrikası
High Purity w Sputtering Target company
Saf Tungsten Metal Püskürtme Hedef Fabrikası

 

Saf Tungsten Metal Püskürtme Hedef Ürün Parametresi Tablo

Başvuru

Yarı iletkenler, mikro elektronik vb.

Atom hacmi

9.53 cm3/mol

Kristal yapı ve kafes sabiti

- W: BCC A=3. 16524 nm (25 derece)

-W

Kübik kafes A=5. 046 nm (630 derecenin altına kararlı)

Gizli erime ısısı

40.13 ± 6.67kj/mol

Süblimasyon ısısı

847.8 kJ/mol (25 derece)

Buharlaşma ısısı

823.85 ± 20.9kj/mol (kaynama noktası)

Sıcaklık direnç katsayısı

0. 00482 i/ derece

Elastik modül

35000 ~ 38000 MPa (tel)

Burulma modülü

~ 36000mpa

Sıkıştırılabilirlik

2. 910-7 cm/kg

 

If you have other product needs, please contact us, please leave a message to: sales@zanewmetal.com, we will reply to you as soon as possible~